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| 专利/申请号： | CN202321556634.6 | 专利名称： | 一种光学元件清洗装置 |
| 申请日： | 2023-06-19 | 申请/专利权人 | 武汉天溯科华检测技术有限公司 |
| 专利类型： | 实用新型 | 地址： | 湖北省武汉市东湖新技术开发区理工园四路1号理工大科技园研发基地B2栋B406室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号： | B08B3/02 分类检索 |
| 公开/公告日： | 2024-02-13 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN220479535U | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
| 浏览量： | 29 | 所属领域： | 光学仪器专利转让搜索 |
摘 要：本实用新型提供一种光学元件清洗装置，包括清洗装置本体，所述清洗装置本体包括底座、盖板、底部清洗槽、顶部清洗槽和夹具，所述盖板安装在底座的顶部，所述底座的表面开设有底部清洗槽，所述盖板的下方设置有顶部清洗槽，且顶部清洗槽和底部清洗槽的开口尺寸相同，每个底部清洗槽的内壁上均安装有夹具，且每个底部清洗槽两侧的底座上开设有滑槽，该光学元件清洗装置在底座和盖板的表面通过设置的两个圆形顶部清洗槽和底部清洗槽，来对待清洗的光学元件进行放置，并配合两处进水口和排水口的交错设置，即可通过水流的冲击将整个光学镜片元件进行旋转，通过自身的转动加强与水流之间的撞击效果，进而提高清洗的质量。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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