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专利详情
实用新型
已授权
一种镀膜前基材处理装置
📄 申请号:CN202421602356.8
📄 发布日:2025/12/08
著录项目信息
申请日
2024-07-09
公开号
CN223043179U
公开日
2025-07-01
申请人
张家港鼎派科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
B08B1_36
IPC 分类号
B08B1_36
,
B08B1_12
,
B08B1_52
,
技术画像
所属领域
表面处理
表面处理
镀膜工艺
等离子体表面处理
应用场景
光学镀膜, 半导体制造, 装饰镀膜, 工具涂层, 显示面板制造
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摘要
本实用新型提供一种镀膜前基材处理装置,涉及工件纳米镀膜预处理技术领域,包括:基材清洁输送架,所述基材清洁输送架的前方右端通过螺栓固定连接有输送驱动件,基材清洁输送架的中间部位前方和后方分别固定连接有一处定位辅助侧板,基材清洁输送架上安装有循环导杆,循环导杆上活动连接有基材夹持架,设置有基材的定点固定结构,避免由于清扫滚刷旋转对基材表面擦拭过程中导致基材偏离的情况,解决了现有钣金工件在进行镀膜前,需要将工件固定安装在镀膜架上,并对工件外表面进行擦拭,去除工件外表面的杂质,完成镀膜后将工件从镀膜架上拆卸,在此过程中,手动安装、擦拭工件需要耗费大量时间,操作过程繁琐,工件的镀膜效率低的问题。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20250701
✅ 授权
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