发明专利已授权

一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置(水文地质)

Name: 一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置(水文地质)
Brand: 武汉市陆刻科技有限公司
SKU: 2019113911566
Price: 12500.0 CNY
Availability: InStock

📄 申请号：CN201911391156.6 📄 发布日：2026/07/09

著录项目信息

申请日

2019-12-30

公开号

CN111077587B

公开日

2022-04-15

申请人

武汉市陆刻科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01V9_00

IPC 分类号

G01V9_00

技术画像

所属领域

地质勘探地质勘探地下空间探测三维地质建模

应用场景

水文地质调查, 岩溶地区工程建设, 地质灾害防治, 地下水资源勘探, 地质结构精细解释

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摘要

本发明提出了一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置。包括：将水井分为观测井以及抽水井两组，建立时间流速算法，获取待计算数据，根据时间流速算法进行计算，获取流速数值，根据该流速数值对抽水井进行抽水，记录所有水井内水位变化数据；设定比较数值阈值，根据观测井水位变化数值以及抽水井水位变化数值确定获取待比较数值，将比较数值阈值与待比较数值进行比较，根据比较结果对地下岩溶结构进行刻画。本发明通过将抽水井抽水流速设置为以时间为自变量的余弦函数，对观测井内水位变化值进行分析，结合抽水井内水位变化值(相位和振幅)，能够准确快速对地下岩溶结构进行精细刻画。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN111077587B

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当前标价为 12500.0 元，不含过户费。支持议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

一种电子滤波器浸锡装置

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G01V9_00 覆盖1个领域

¥12500.0 元

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：39 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

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