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| 专利/申请号： | CN201911391156.6 | 专利名称： | 一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置(水文地质) |
| 申请日： | 2019-12-30 | 申请/专利权人 | 武汉市陆刻科技有限公司 |
| 专利类型： | 发明 | 地址： | 湖北省武汉市东湖新技术开发区东信路数码港E幢二层2256、2266室 |
| 专利状态： | 已下证 查询审查信息 | 分类号： | G01V9/00分类检索 水利专利转让搜索 |
| 公开/公告日： | 2022-04-15 | 转让价格： | 【平台担保交易】 |
| 公开/公告号： | CN111077587B | 交易状态： | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要：本发明提出了一种地下岩溶结构精细刻画方法及装置。包括：将水井分为观测井以及抽水井两组，建立时间流速算法，获取待计算数据，根据时间流速算法进行计算，获取流速数值，根据该流速数值对抽水井进行抽水，记录所有水井内水位变化数据；设定比较数值阈值，根据观测井水位变化数值以及抽水井水位变化数值确定获取待比较数值，将比较数值阈值与待比较数值进行比较，根据比较结果对地下岩溶结构进行刻画。本发明通过将抽水井抽水流速设置为以时间为自变量的余弦函数，对观测井内水位变化值进行分析，结合抽水井内水位变化值(相位和振幅)，能够准确快速对地下岩溶结构进行精细刻画。
| 交易方 | 企业 | 个人 |
| 买家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（签字） |
| 专利转让委托书（需盖公章）一式两份 | 专利转让委托书（需签字）一式两份 | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 卖家 | 营业执照副本复印件（需盖公章） | 身份证复印件（需申请人签字） |
| 解除代理委托书（需盖公章）一式两份（如专利通过代理机构申请） | 解除代理委托书（需签字）一式两份（如专利通过代理机构申请） | |
| 专利转让协议（需盖公章）一式两份 | 专利转让协议（需签字）一式两份 | |
| 专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
| 专利证原件（若授权下证） | 专利证原件（若授权下证） |
| 日期 | 法律信息 | 备注 |
| 申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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