实用新型已授权

一种单分散二氧化硅微球粉高效研磨装置

📄 申请号：CN202222845960.0 📄 发布日：2026/04/09

著录项目信息

申请日

2022-10-27

公开号

CN219129487U

公开日

2023-06-06

申请人

中谱科技(福州)有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B02C21_00

IPC 分类号

B02C21_00 , B02C4_12 , B02C4_28 , B02C4_30 , B02C4_26 , B02C4_42 , B02C23_24 , B02C23_16 , B01D46_02 ,

技术画像

所属领域

研磨设备研磨设备粉碎机械粉体工程

应用场景

粉体加工, 化工材料制备, 电子材料加工, 色谱填料制备, 抛光材料生产

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摘要

本实用新型涉及研磨装置技术领域，尤其为一种单分散二氧化硅微球粉高效研磨装置，包括机壳，机壳内部左半区从上往下依次设置有一级研磨室、设备室、二级研磨室和收集室，机壳内部右半区设置有底部与收集室连通的除尘室，一级研磨室内转动设置有研磨筒，二级研磨室内转动设置有研磨块。能够在单一驱动电机的驱动下实现对单分散二氧化硅微球粉原料的两次研磨，能源损耗低，其中，研磨筒和研磨弧板的研磨可消除单分散二氧化硅微球粉原料中的结块和大颗粒，降低研磨块的研磨压力，提高单分散二氧化硅微球粉原料的研磨效率，且在研磨过程中产生的粉尘被抽气风机吸出，由布袋除尘器进行除尘，可实现良好的除尘效果。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20230606

✅ 授权

插秧机行走箱

当前第 / 件

色谱柱冲洗装置

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B02C21_00 B02C21_02 覆盖2个领域

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