实用新型已授权

一种硅片表面喷砂装置

📄 申请号：CN202321678761.3 📄 发布日：2025/09/04

著录项目信息

申请日

2023-06-29

公开号

CN220145674U

公开日

2023-12-08

申请人

河南省华兴隆新能源科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

实用新型

主分类号

B24C3_04

IPC 分类号

B24C3_04 , B24C1_04 , B24C5_04 , B24C9_00 ,

技术画像

所属领域

喷砂装置半导体制造设备表面处理硅片加工喷砂装置

应用场景

半导体制造, 硅片表面处理, 集成电路工艺

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摘要

本实用新型公开了一种硅片表面喷砂装置，属于硅片喷砂装置技术领域，包括喷砂台，所述喷砂台顶端的中部开设有收集槽，所述喷砂台顶端的边侧固定设有喷砂机构，所述收集槽的一侧穿插设有第一连接杆，所述第一连接杆的一端固定设有转扭。该硅片表面喷砂装置，通过设有转扭、第一连接杆、第一夹板、第二夹板和固定组件，通过第一夹板、第二夹板和第一弹簧共同作用下，将硅片进行夹持固定，通过喷砂机构对其单面喷砂后，打开固定组件，将转扭转动一百八十度后通过固定组件固定，转扭转动带动第一连接杆转动，并通过夹板将硅片进行翻面，通过这种方式在硅片单面喷砂后，方便翻转硅片对其背面进行喷砂，且整个翻面过程省事省力，操作便捷。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20231208

✅ 授权

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