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一种低电位疏水性多肽单层膜及其制备方法与应用

来源:https://www.shizifang.com  发布日:2025/02/21

摘     要:本发明提供一种具有表面低电位且疏水性的多肽单层膜,所述多肽是由分子量为(1.48±0.2)×105g/mol的多肽分子构成的,单层膜的厚度为6.2~9.0nm,膜表面的伯氨基暴露量为9.5~15%,多肽单层膜的Zeta电位为‑3~‑9mV;所述膜的接触角为61±1°~84±1°。该膜厚度超薄,最低仅6.6nm左右,其较低的表面电位及一定的疏水性能使其可应用于皮革制备领域。本发明的多肽单层膜还可应用于生物传感器的制备中,有助于提高检测限;由于本发明涉及的多肽单层膜表面的伯氨基量可控,有利于进一步化学改性可控性,为下一步实现聚硅氧烷及生物制剂的可控接枝提供基础。

著 录 项: 

专利/申请号: CN202010753400.5 复制 专利名称: 一种低电位疏水性多肽单层膜及其制备方法与应用 复制
申请日: 2020-07-30 申请/专利权人 齐鲁工业大学
专利类型: 发明 地址: 山东省济南市长清区大学路3501号
专利状态: 已下证 查询审查信息 分类号: B05D7/14搜分类   化学化工搜索
公开/公告日: 2021-08-10 转让价格: 面议
公开/公告号: CN111842088B 交易状态: 等待洽谈   搜索相似专利

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专利法律信息

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