发明专利 已授权

一种低电位疏水性多肽单层膜及其制备方法与应用

📄 申请号:CN202010753400.5 📄 发布日:2026/06/16

著录项目信息

申请日
2020-07-30
公开号
CN111842088B
公开日
2021-08-10
申请人
齐鲁工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

生物传感器, 表面修饰, 生物医学工程

摘要

本发明提供一种具有表面低电位且疏水性的多肽单层膜,所述多肽是由分子量为(1.48±0.2)×105g/mol的多肽分子构成的,单层膜的厚度为6.2~9.0nm,膜表面的伯氨基暴露量为9.5~15%,多肽单层膜的Zeta电位为‑3~‑9mV;所述膜的接触角为61±1°~84±1°。该膜厚度超薄,最低仅6.6nm左右,其较低的表面电位及一定的疏水性能使其可应用于皮革制备领域。本发明的多肽单层膜还可应用于生物传感器的制备中,有助于提高检测限;由于本发明涉及的多肽单层膜表面的伯氨基量可控,有利于进一步化学改性可控性,为下一步实现聚硅氧烷及生物制剂的可控接枝提供基础。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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