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摘 要:本实用新型属于化工设备技术领域,提供了一种易于清洗的搪瓷反应釜,包括反应釜本体,反应釜本体上设有与其配合的盖体,盖体上设有电机支架,电机支架上设有电机,电机与搅拌桨连接,搅拌桨设置在反应釜本体内;反应釜本体的底部设有出料口,出料口上设有控制阀;反应釜的内部设有喷水装置,喷水装置与可升降装置连接,可升降装置固定在电机支架上;可升降装置可以带动喷水盘进行上下移动,从而对内壁实现更好的冲洗;本实用新型结构简单,可以实现对反应釜本体内壁的深度清洗,保证其清洁度,从而使反应釜内部可以完成更好的完成化学反应。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202122784832.5 | 专利名称: | 一种易于清洗的搪瓷反应釜(报过项目) |
申请日: | 2021-11-12 | 申请/专利权人 | 天津羲泽润科技有限公司 |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | 天津市滨海新区高新区华苑产业区(环外)海泰发展二路四号4号楼402B |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B01J19/18搜分类 清洗搜索 |
公开/公告日: | 2022-04-05 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN216172351U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |