发明专利 已授权

高分散Cu@SBA-15的原位光诱导自组装合成方法

📄 申请号:CN202111250097.8 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-10-26
公开号
CN114011453B
公开日
2023-09-22
申请人
淮阴工学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

多相催化, 光催化, 气体吸附分离, 环保催化

摘要

本发明涉及介孔分子筛膜单质铜的原位掺杂,公开了一种介孔分子筛负载金属单质的新型制备方法,将硅源、模板剂P123和光致产酸剂PAG混合搅拌均匀,得到分子筛膜凝胶;将铜盐及光引发剂184加入分子筛膜凝胶中混合均匀,得镀膜溶液;在湿度为50~100%的环境下,将镀膜溶液均匀涂抹至基板上,形成一层质地均匀的液膜;将液膜转移至相同湿度的无氧环境中,紫外光照下对液膜进行照射,脱除模板剂,即实现原位光诱导自组装合成高分散Cu@SBA‑15。本发明可以一步实现介孔分子筛的合成并实现单质铜的原位还原,具有单质金属分散度高,金属粒径颗粒小,金属比表面大,金属活性位点多,合成操作简单,绿色经济。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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