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摘 要:本发明涉及介孔分子筛膜单质铜的原位掺杂,公开了一种介孔分子筛负载金属单质的新型制备方法,将硅源、模板剂P123和光致产酸剂PAG混合搅拌均匀,得到分子筛膜凝胶;将铜盐及光引发剂184加入分子筛膜凝胶中混合均匀,得镀膜溶液;在湿度为50~100%的环境下,将镀膜溶液均匀涂抹至基板上,形成一层质地均匀的液膜;将液膜转移至相同湿度的无氧环境中,紫外光照下对液膜进行照射,脱除模板剂,即实现原位光诱导自组装合成高分散Cu@SBA‑15。本发明可以一步实现介孔分子筛的合成并实现单质铜的原位还原,具有单质金属分散度高,金属粒径颗粒小,金属比表面大,金属活性位点多,合成操作简单,绿色经济。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202111250097.8 | 专利名称: | 高分散Cu@SBA-15的原位光诱导自组装合成方法 |
申请日: | 2021-10-26 | 申请/专利权人 | 淮阴工学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省淮安市盱眙县都梁香兰大厦 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B01J29/03搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2023-09-22 | 转让价格: | 25000.0元 |
公开/公告号: | CN114011453B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |