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摘 要:本发明公开了一种微纳尺度的图形绘制方法,包括:通过磁控溅射仪在纳米尺度的针尖上溅射贵金属包覆层;通过磁控溅射仪在硅片上溅射贵金属薄膜作为基底,或者以单层石墨烯作为基底;在所述基底上吸附光敏分子,然后置于载物台上;固定所述针尖,调节激光器的入射激光,使所述入射激光照射在所述针尖尖端,利用针尖产生的局域表面等离激元,作用于光敏分子生成反应物,通过载物台调节光敏分子的位置,从而较好地控制光敏分子的反应物形成微纳尺度的图形的形状和过程。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710994011.X | 专利名称: | 一种微纳尺度的图形绘制方法 |
申请日: | 2017-10-23 | 申请/专利权人 | 首都师范大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 北京市海淀区西三环北路105号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B81C3/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 2019-07-30 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN107739021B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |