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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN201710351965.9 | 专利名称: | 一种具有液晶及光记忆储存型梳状高分子材料的制备方法 |
申请日: | 2017-05-18 | 申请/专利权人 | 雷格工业设计(杭州)有限公司 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市江干区环丁路1428号意煌智汇创富中心403室 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | IPC分类号: | C08F265/04 分类检索 |
公开/公告日: | 2022-07-26 | 转让价格: | 【平台担保交易】 |
公开/公告号: | CN217038337U | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
浏览量: | 8 | 所属领域: | 其他专利转让搜索 |
摘 要:一种具有液晶及光记忆储存型梳状高分子材料的制备方法,属于高分子合成、功能化聚合物制备及应用领域,制备了一系列不同分子量及偶氮苯含量的新型液晶记忆储存梳状高分子材料。首先用甲基丙烯酸羟乙酯和2‑溴代异丁酰溴制备含溴单体(甲基丙烯酸(α‑溴异丁酰氧基乙基)酯,BiBEM),其次,含溴单体与甲基丙烯酸甲酯进行可逆加成链转移聚合,制备出分子量可控的侧链含溴代酯的甲基丙烯酸酯共聚合物P0,最后,P0作为大分子引发剂,对偶氮苯单体进行原子转移自由基聚合,制备出梳状高分子,通过偏光显微镜(POM)和原子力显微镜(AFM)显示偶氮苯聚合物具有优异的液晶行为和光响应活性,有望应用于光活性的液晶材料和光记忆存储材料。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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