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分子印迹过氧化聚吡咯/聚对氨基苯磺酸修饰电极的制备

Name: 分子印迹过氧化聚吡咯/聚对氨基苯磺酸修饰电极的制备
Brand: 上海塞孚生物科技有限公司
SKU: 2017103151238
Availability: InStock

📄 申请号：CN201710315123.8 📄 发布日：2025/10/15

著录项目信息

申请日

2017-05-08

公开号

CN107219277B

公开日

2019-05-31

申请人

上海塞孚生物科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G01N27_30

IPC 分类号

G01N27_30 , G01N27_327 , G01N27_36 ,

技术画像

所属领域

修饰电极分子印迹聚合物电化学传感器导电聚合物修饰电极

应用场景

化学分析, 生物传感, 环境监测, 食品检测, 药物分析

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摘要

本发明涉及一种分子印迹过氧化聚吡咯/聚对氨基苯磺酸修饰电极的制备方法，包括以下步骤：制备聚对氨基苯磺酸修饰电极、制备分子印迹过氧化聚吡咯/聚对氨基苯磺酸修饰电极。本发明的有益效果：分子印迹过氧化聚吡咯/聚对氨基苯磺酸修饰电极的制备过程简单环保无污染。此外，聚对氨基苯磺酸的引入可增加与色氨酸三维空间匹配的空腔数量，从而得到的分子印迹材料对于色氨酸对映体的识别效率显著提升。

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250606

?? 专利权的转移：

20190531

✅ 授权

20171031

?? 实质审查的生效：

20170929

📄 公开

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议价

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：113 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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