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发明专利
已授权
一种阵列式多孔氧化物薄膜的制备方法
📄 申请号:CN202010031571.7
📄 发布日:2025/10/16
著录项目信息
申请日
2020-01-13
公开号
CN111185349B
公开日
2022-05-20
申请人
深圳万知达企业管理有限公司
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
B05D1_18
IPC 分类号
B05D1_18
,
B05D1_22
,
B05D3_02
,
B05D7_14
,
B05D7_24
,
技术画像
所属领域
薄膜制备技术
薄膜制备技术
多孔材料
金属氧化物材料
应用场景
气体传感器, 催化剂载体, 锂离子电池, 光电探测器, 环境监测
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摘要
本发明实施例提供了一种阵列式多孔氧化物薄膜的制备方法,该方法先将衬底置于过滤篮底部,再将过滤篮浸入前驱体溶液中,向前驱体溶液表面滴加微球溶液,然后向上提升过滤篮至过滤篮底部离开前驱体溶液,取出衬底并加热,得到前驱体薄膜,将前驱体薄膜升温后烧结,即得所述阵列式多孔氧化物薄膜。该制备方法通过更换微球溶液中的微球,采用不同粒径大小的微球即可实现对氧化物薄膜上孔径大小的调节,适用于单一金属氧化物多孔薄膜,也可以适用于多元金属氧化物多孔薄膜,适用范围广,无需昂贵的设备和精确的控制即可制备,工艺简单,生产成本低。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
20240319
?? 专利权的转移 :
20220520
✅ 授权
20200616
?? 实质审查的生效 :
20200522
📄 公开
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未申报
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