磁控溅射设备类专利转让成果转化、技术转移、商标买卖-智来柿子坊知识产权运营平台

类型
法律状态
检索范围
名称/领域

专利名称：一种磁控溅射基台与磁控溅射设备申请号：2020215758380 转让价格：面议收藏
法律状态：已下证类型：实用新型关键词：纳米材料磁控溅射设备相似专利发布日：2025/08/08
摘要：本申请提供了一种磁控溅射基台与磁控溅射设备，涉及基片刻蚀技术领域。该磁控溅射基台包括边缘环与用于承载待加工基板的夹盘，边缘环环绕于待加工基板的外周且与夹盘连接，边缘环的表面高于待加工基板的表面，边缘环的表面设置有Al2O3保护层。本申请提供的磁控溅射基台与磁控溅射设备具有使用寿命长，使用成本低的优点。

第1页/共1页;本页1条记录/共1条记录

第页

用户指南

交易方式

专项服务

关于柿子坊

关注微信公众号

联系我们

咨询电话：13280638997
传真：0533-3110363
邮箱：kefu@shizifang.com

专利转让_商标转让_知识产权转让评估买卖_智来柿子坊专利交易平台