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专利名称:
激光投影虚拟校正设备和方法
申请号:
2020109696682
转让价格:面议
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法律状态:已下证 类型:发明 关键词:
半导体 激光投影
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发布日:2024/10/30
摘要: 本发明的实施例提供了一种激光投影虚拟校正设备和方法,涉及半导体技术领域,该激光投影虚拟校正设备包括转动设置在一腔室内的研磨平台、设置在研磨平台上以实现晶片研磨的研磨组件,以及设置在腔室的顶部和/或侧壁上的激光投影器;其中,激光投影器用于向研磨平台发射激光,并在研磨平台上形成与预设图像信息相匹配的定位投影。相较于现有技术中的实体治具,本发明通过激光形成虚拟治具,从而使得在校正过程中研磨平台与激光投影器之间没有直接接触,不会造成污染,也无需更换耗材,降低了耗材成本。
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