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专利名称：一种新型蚀刻液电解阴离子膜的制备方法及应用申请号：202110458934X 转让价格：面议收藏
法律状态：已下证类型：发明关键词：电子元器件电子设备和元器件蚀刻膜的制备方法蚀刻液相似专利发布日：2024/07/25
摘要：本发明涉及一种新型蚀刻液电解阴离子膜的制备方法及应用，属于蚀刻液电解技术领域。本发明阴离子膜的制备方法为：S1、对涤沦纤维进行前处理；S2、在紫外光和催化剂作用下，将经过前处理的涤沦纤维加入到1,2‑二甲基咪唑溶液中进行改性处理；S3、将经过改性处理的涤沦纤维加入胺类水溶液中进行季铵化反应，制得涤沦纤维膜；S4、将涤沦纤维膜浸泡到PVAL溶液中，取出干燥，制得涤沦纤维阴离子膜。在特定条件下通过对涤纶纤维进行改性和季铵化反应处理制得阴离子膜处理能力强，电极电压增加相比于其他同类离子膜下降了约10％，电阻相比于其他同类离子膜下降10‑12％；使用寿命极大延长，由原来的更换时间不足20‑30天，增加到现在的一年多。

专利名称：一种防眩玻璃蚀刻液及其制备方法申请号：2016105534752 转让价格：面议收藏
法律状态：已下证类型：发明关键词：玻璃蚀刻蚀刻液相似专利发布日：2024/07/17
摘要：本发明涉及一种防眩玻璃蚀刻液及其制备方法，玻璃蚀刻液由以下重量百分比的原料组成：H2SO48.2‑9.6%、Na2SiF6 1.8‑2.2%、ZnCl2 4.5‑5.5%、NH4HF2 21.5‑22.5%、CaF2 3.6‑4.2%、(NH4)2SO4 3.6‑4.2%、BaSO4 2.1‑2.5%、粘度调节剂1.6‑1.8%、十二烷基葡萄糖苷1.8‑2.2%和水45‑55%。本发明的防眩玻璃蚀刻液能够克服现有蚀刻液成本高且不稳定的缺陷，从而制得的成本低且产品表面颗粒细腻，透过率高的防眩玻璃。

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