磁控溅射技术 - 专利交易市场|柿子坊知识产权运营平台

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本发明提供了一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni‑Co‑Mn‑Ti合金薄膜的方法，其步骤为：(一)选取靶材：按化学计量比选取NiMnTi合金靶和Co单质靶；(二)共溅射：1.基底加热：将选好的合金靶和单质靶放在溅射室的溅射靶之上固定好，关闭腔盖抽真空到10‑4Pa以下后加热基底，打开基底加热电源，调整加热旋钮到合适位置开始加热；2.溅射室压强调整：充入纯度为99.999％的氩气，通过调整流量仪和闸板阀控制溅射室内压强到合适大小；3.直流共溅射：调整溅射靶的功率旋钮到合适范围开始共溅射，溅射一定时间后停止溅射。

📄 2016108715548 📂 C23C14_35 👤 江西理工大学 📅 2016-09-30

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一种通过磁控溅射直流共溅射制备NiCoMnTi合金薄膜的方法

2016108715548 · 江西理工大学

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