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专利名称：用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法申请号：2021103404774 转让价格：面议收藏
法律状态：已下证类型：发明关键词：功能影响相似专利发布日：2023/10/17
摘要：本发明提供了用于研究光胁迫对光系统II结构和功能影响的装置及方法，装置包括装置主体、分段光照装置、叶片处理装置、光系统II处理装置和内周天线处理装置，分段光照装置包括竖直将装置主体平均分为三部分的隔板槽一、二、三，隔板槽一、二、三的夹角处分别设有可调节光源，隔板槽一、二、三连接处设有圆柱型光照控制槽，叶片处理装置包括弧形槽体一、叶片存储装置和密封遮盖，光系统II处理装置包括弧形槽体二和试管架一，内周天线处理装置包括弧形槽体三和试管架二。总之，本发明具有结构新颖、操作方便、研究效率高等优点。

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