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专利名称：一种V纳米线增强的宽滞后NiTiV形状记忆合金申请号：2018103200900 转让价格：面议收藏
法律状态：已下证类型：发明关键词：高性能金属材料设计航空航天智能结构材料生物医学智能驱动器件相似专利发布日：2025/07/09
摘要：本发明公开了一种V纳米线增强的宽滞后NiTiV形状记忆合金，属于新型金属的生产技术领域。该合金由镍、钛和钒三种原料组成，其中：钒的原子百分比为9～25％，镍和钛原子百分比满足：|Ni％‑Ti％|≤2％。该合金是通过熔炼、锻造和拉拔的方法得到的；在熔炼过程中镍钛与钒发生共晶反应，生成尺寸十分细小的片层状β‑V相，片层厚度小于300纳米；而在锻造和拉拔过程中，细小的钒片层继续发生变形，最终形成直径小于50纳米的纳米线。与NiTiNb合金相比，NiTiV具有较小的密度，有利于其应用为航空航天材料；与Nb相比，V的熔点更低，方便熔炼和热处理；相比已有的NiTiV合金，本发明中V含量较高，原子百分比为9～25％，能够更有效的提高合金的相变滞后。

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