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本发明公开了一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法，它打破了使用现有的单通道模板仅能制备单通道结构的规律，给出了一种利用单通道PDMS诱导模板制备微流控芯片上双通道结构的方法。本发明的方法为：首先利用光刻技术制备出所需的单通道母版结构，再使用PDMS材料制备出单通道PDMS诱导模板，然后将诱导模板与基片紧密粘附在一起形成单通道空腔，在空腔一侧滴入S1813光刻胶，静置2个小时后对其加热，光刻胶发生回流，同时在单通道PDMS诱导模板的诱导下形成双通道结构，冷却固化并揭掉诱导模板后，就在基片表面上制得了双通道结构。本发明适用于微流控芯片、生物医药等应用领域。