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摘 要:本发明公开了一种二氧化硅增透膜的制备方法,包括:通过溶胶‑凝胶提拉镀膜法制备出多层SiO2薄膜,其中底层膜A是用酸催化SiO2溶胶和碱催化SiO2溶胶混合制备所得,上层膜B是用HMDS处理的SiO2溶胶制备得到,经过A/B/A/B/A/B…A/B的顺序多层叠加实现宽光谱范围的强增透效果。本发明制备的多层SiO2增透膜在中心波长351nm、527nm、1053nm、1064nm处均具有>98%透光率,反射率<2%;高的激光损伤阈值,其值为≥20J/cm‑2;好的疏水性和环境稳定性,水接触角达到了≥125°。这种多层SiO2增透膜在相关的性能和应用范围上都比传统的单层SiO2增透膜更具优势,可广泛应用于各种光学系统中,如大脉冲能量型和高平均功率型激光器、光学镜片或窗口、法拉第旋光器。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202211335660.6 | 专利名称: | 一种二氧化硅增透膜的制备方法 |
申请日: | 2022-10-28 | 申请/专利权人 | 西南科技大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 关键词: | 无机化合物 相似专利 |
公开/公告日: | 2023-07-18 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN115555235B | 交易状态: | 等待洽谈 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(最新年检需盖公章)与组织机构代码副本复印件(需盖公章)一个专利各一份 | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利协议(需盖公章)一式两份 | 专利协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(最新年检需盖公章)组织机构代码副本复印件(需盖公章)一个专利各一份 | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利协议(需盖公章)一式两份 | 专利协议(需签字)一式两份 | |
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专利证原件(若授权未下证) | 专利证原件(若授权未下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |