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摘 要:本实用新型公开了一种用于晶片的超声波清洗装置,包括超声波清洗装置主体,用于晶片的超声波清洗装置还包括放置板,放置板活动安装在超声波清洗装置主体的内部,且放置板用于承载晶片;安装杆,安装杆设置在放置板的内部,安装杆的表面活动套接有弹簧,弹簧的一端固定连接在放置板的内部。上述方案中,通过安装架底面所安装的电机带动螺杆进行转动,通过电机反转带动封盖连同放置板下移,使得晶片进入超声波清洗装置主体内部并进行清洗,当清洗完成后,将封盖再次上移,并启动电动风扇对晶片进行吹风,即对晶片直接进行烘干,从而可避免批量晶片堆积而导致清洗效果不佳的情况,并且可在晶片清洗后直接进行烘干,从而达到了提高装置实用性的效果。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202322117913.9 | 专利名称: | 一种用于晶片的超声波清洗装置 |
申请日: | 2023-08-07 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 关键词: | 清洗 相似专利 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(最新年检需盖公章)与组织机构代码副本复印件(需盖公章)一个专利各一份 | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利协议(需盖公章)一式两份 | 专利协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(最新年检需盖公章)组织机构代码副本复印件(需盖公章)一个专利各一份 | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利协议(需盖公章)一式两份 | 专利协议(需签字)一式两份 | |
专利受理通知书复印件或专利授权通知书复印件 | 专利受理通知书复印件或专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权未下证) | 专利证原件(若授权未下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |